氧化技術在廢氣治理中的應用：活性氧離子與光催化

隨著環保要求的日益嚴格，對難以生物降解的揮發性有機物（VOCs）和惡臭氣體的處理提出了更高要求。在此背景下，基于高級氧化過程的技術，如活性氧離子除臭和光催化氧化廢氣處理設備，顯示出其獨特的優勢。

活性氧離子除臭技術主要在于產生高活性的基團。設備通過高壓放電等方式，將空氣中的氧氣和水分子電離，產生大量包括羥基自由基、臭氧、過氧化氫等在內的活性氧物質。這些活性物質具有極強的氧化能力，其氧化還原電位遠高于普通化學氧化劑。當廢氣通過反應區時，其中的惡臭分子和VOCs會被這些活性氧迅速攻擊、斷鏈，從而礦化為二氧化碳和水。該方法反應迅速，無需添加化學品，設備啟停靈活，尤其適用于空間有限、需要即時除臭的場合。

光催化氧化廢氣處理設備則是另一種高效的高級氧化技術。它通常利用特定波長的紫外光（尤其是UVC）照射在光催化劑（如二氧化鈦）表面。當光子能量高于催化劑禁帶寬度時，會激發產生電子-空穴對。這些空穴具有很強的奪電子能力，能與催化劑表面的水分子反應生成羥基自由基，而電子則與氧氣反應生成超氧負離子等活性物質。這些強氧化性物質能無選擇性地降解絕大多數有機污染物。光催化技術對低濃度VOCs和細菌病毒也有一定的去除效果，且催化劑理論上具有長效性。

這兩種技術都屬于低溫深度氧化技術，能夠在常溫常壓下實現對污染物的高效分解，避免了二次污染物的產生（如活性炭的固廢、化學洗滌的廢液）。它們可以作為單元使用，也常與其他技術（如活性炭吸附處理）組合，用于處理成分復雜或濃度波動的廢氣，通過協同作用提升整體凈化效率與穩定性。